طرح نگار یونی یا فرزکاری/لیتوگرافی با استفاده از پرتو یونی متمرکز شده (Focused Ion Beam Lithography) بیش از یک دهه است که معرفی شده که البته مدیون اختراع منبع یونی فلزات مایع و اخیراً منبع یونی گازی است.
با کنترل کردن پرتوهای یونی متمرکز شده، الگوسازی در مرتبهٔ نانو بر روی مواد هدف با دقت بالا و ساختارهای سه بعدی پیچیده، می توان ساخت. هرچند وقتی یونهای پر انرژی به هدف برخورد می کنند، بسیاری از فرایندها ممکن است اتفاق بیفتند از جمله:
جابجایی شبکهٔ اتمها، کندوپاش سطحی، ایجاد نقص و تولید فرایندهای ثانویهٔ دیگر. بنابراین وقتی یونها به جسم جامد برخورد می کنند فقط کندوپاش (که مطلوب ماست) رخ نمی دهد بلکه فرایند کاشت، باد کردن، لایه نشانی، بازپراکندگی و فرایندهای واکنش هسته ای نیز رخ می دهد.
با کنترل کردن پرتوهای یونی متمرکز شده، الگوسازی در مرتبهٔ نانو بر روی مواد هدف با دقت بالا و ساختارهای سه بعدی پیچیده، می توان ساخت. هرچند وقتی یونهای پر انرژی به هدف برخورد می کنند، بسیاری از فرایندها ممکن است اتفاق بیفتند از جمله:
جابجایی شبکهٔ اتمها، کندوپاش سطحی، ایجاد نقص و تولید فرایندهای ثانویهٔ دیگر. بنابراین وقتی یونها به جسم جامد برخورد می کنند فقط کندوپاش (که مطلوب ماست) رخ نمی دهد بلکه فرایند کاشت، باد کردن، لایه نشانی، بازپراکندگی و فرایندهای واکنش هسته ای نیز رخ می دهد.
wiki: طرح نگار یونی