طیف سنجی پلاسمای جفت شده القایی (به انگلیسی: Inductively Coupled Plasma) از جمله روش های طیف سنجی گسیلی اتمی است که در آن از طریق جریان الکتریکی برای تغییر میدان مغناطیسی متغیر با زمان برای ایجاد القای الکترومغناطیسی و پدیدآوردن محیط گرم پلاسما استفاده می شود. اتم سازی در این روش به کمک پلاسمای تولید شده توسط یک گاز نجیب (عمدتا آرگون و در موارد محدودی از گاز هلیم) صورت می گیرد.
طیف سنجی انتشار اتمی یا ICP-AES به انگلیسی (Atomic Emission Spectroscopy)
طیف سنجی جرمی یا ICP-MS به انگلیسی (Mass Spectrometry)
سونش پلاسما یا ICP-RIE به انگلیسی (Reactive-Ion Etching)
تحریک گاز نجیب برای تبدیل به حالت ناپایدار
استفاده از گاز آرگون برای تولید پلاسما به دو دلیل است: اولا به دلیل فراوان بودن گاز آرگون، استفاده از آن ارزان تر از بقیه گازهای نجیب است. دوما اولین پتانسیل یونش آن بالاتر از عناصری مانند هلیم، فلوئور و نئون است بنابراین واکنش الکترون گیری آرگون، راحت تر از الکترون گیری سایر عناصر است. در نتیجه یون فلزی مورد نظر، مدت زمان بیشتر در محیط می ماند.
۱) این روش در مقایسه با روش های دیگر، روشی حساس تر، با حد تشخیص بهتر و تکرارپذیری بالاتر به خاطر دمای ثابت محیط آزمایش است. از این روش می توان برای تعیین مقدار بیشتر عناصر (بجز آرگون) در حد ذره در میلیون (پی پی ام یا parts-per-million) یا حتی ذره در میلیارد (پی پی بی parts-per-billion) استفاده کرد.
۲) چون در این روش الکترودها کاملاً خارج از منطقه تحریک اتم ها هستند احتمال مزاحمت های شیمیایی در آن بسیار پایین است. زیرا محیط شیمیایی خنثی و بدون اکسیداسیون است. در نتیجه، زمان ماندگاری بالا و حساسیت اندازه گیری نیز بیشتر می شود. در مقابل این روش، پلاسمای جفت شده خازنی یا CCP (به انگلیسی: Capacitively Coupled Plasma) وجود دارد که الکترودهای آن درون منطقه تحریک اتم ها و تماس با پلاسما قرار می گیرد.
طیف سنجی انتشار اتمی یا ICP-AES به انگلیسی (Atomic Emission Spectroscopy)
طیف سنجی جرمی یا ICP-MS به انگلیسی (Mass Spectrometry)
سونش پلاسما یا ICP-RIE به انگلیسی (Reactive-Ion Etching)
تحریک گاز نجیب برای تبدیل به حالت ناپایدار
استفاده از گاز آرگون برای تولید پلاسما به دو دلیل است: اولا به دلیل فراوان بودن گاز آرگون، استفاده از آن ارزان تر از بقیه گازهای نجیب است. دوما اولین پتانسیل یونش آن بالاتر از عناصری مانند هلیم، فلوئور و نئون است بنابراین واکنش الکترون گیری آرگون، راحت تر از الکترون گیری سایر عناصر است. در نتیجه یون فلزی مورد نظر، مدت زمان بیشتر در محیط می ماند.
۱) این روش در مقایسه با روش های دیگر، روشی حساس تر، با حد تشخیص بهتر و تکرارپذیری بالاتر به خاطر دمای ثابت محیط آزمایش است. از این روش می توان برای تعیین مقدار بیشتر عناصر (بجز آرگون) در حد ذره در میلیون (پی پی ام یا parts-per-million) یا حتی ذره در میلیارد (پی پی بی parts-per-billion) استفاده کرد.
۲) چون در این روش الکترودها کاملاً خارج از منطقه تحریک اتم ها هستند احتمال مزاحمت های شیمیایی در آن بسیار پایین است. زیرا محیط شیمیایی خنثی و بدون اکسیداسیون است. در نتیجه، زمان ماندگاری بالا و حساسیت اندازه گیری نیز بیشتر می شود. در مقابل این روش، پلاسمای جفت شده خازنی یا CCP (به انگلیسی: Capacitively Coupled Plasma) وجود دارد که الکترودهای آن درون منطقه تحریک اتم ها و تماس با پلاسما قرار می گیرد.